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無錫尚積半導體科技股份有限公司年新增研發(fā)20臺半導體薄膜沉積設備項目 |
| 發(fā)布者：無錫市科泓環(huán)境工程技術有限責任公司 發(fā)布時間：3/13/2025 10:24:49 AM 點擊次數(shù)：949 關閉 |
項目名稱:年新增研發(fā)20臺半導體薄膜沉積設備項目 建設單位:無錫尚積半導體科技股份有限公司 地址:江蘇省無錫市新吳區(qū)長江南路35-312號、35-321號 環(huán)境影響評價機構(gòu):無錫市科泓環(huán)境工程技術有限責任公司 聯(lián)系電話:0510-68566079 郵箱:1xhb668@163.com 公眾提出意見的主要方式:電話、郵件 公示日期為2025年3月13日-2025年3月19日 無錫尚積半導體科技股份有限公司年新增研發(fā)20臺半導體薄膜沉積設備項目
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