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無錫尚積半導體科技股份有限公司年新增研發(fā)20臺半導體薄膜沉積設備項目

發(fā)布者：無錫市科泓環(huán)境工程技術有限責任公司發(fā)布時間：3/13/2025 10:24:49 AM 點擊次數(shù)：654 關閉

項目名稱:年新增研發(fā)20臺半導體薄膜沉積設備項目

建設單位:無錫尚積半導體科技股份有限公司

地址:江蘇省無錫市新吳區(qū)長江南路35-312號、35-321號

環(huán)境影響評價機構:無錫市科泓環(huán)境工程技術有限責任公司

聯(lián)系電話:0510-68566079

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公眾提出意見的主要方式:電話、郵件

公示日期為2025年3月13日-2025年3月19日

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